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2023高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题会议
2023/10/03
第一轮通知
(2023年10月20~22日)
以高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术,可以明显提高薄膜结构可控性,进而获得优异的薄膜性能,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。为推动该技术的进步,国际上已经形成了HiPIMS Today等一系列的国际会议对该技术放电机理、脉冲形式、等离子体输运与诊断、以及薄膜/涂层沉积与应用等多个方面进行专题研讨,为其发展与应用带来了蓬勃动力!
中国机械工程学会表面工程分会作为全国性的学术组织,于2017年提出在国内举办高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题研讨会,并连续在上海、兰州和深圳成功举办三届,交流报告数量和质量显著提升,交流内容涉及高功率脉冲磁控溅射过程中电子与离子的相互作用,深振荡、中频叠加等电源与阴极靶结构协同控制等基础研究,工艺参数对膜层性能的影响、工业化存在的主要问题及对策等。参会人员由80人迅速增加到200余人,通过会议交流、深入讨论及与国际知名企业的对接,推动了我国高功率脉冲磁控溅射技术的发展。
近年来,国家对科技创新日益关注,习近平总书记多次强调创新的重要性,科技创新被提到了十分重要的位置。重庆作为中西部******的直辖市、国家先进制造业中心,在国家区域发展和对外开放格局中具有独特而重要的作用,必将为本次创新型会议提供良好的交流氛围;同时,本次具有技术前瞻性的学术会议在重庆召开,也将推动当地薄膜技术的发展进步。
经中国机械工程学会表面工程分会与西南大学材料与能源学院协商,定于2023年10月20~22日在重庆召开“2023高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议”。热忱欢迎国内外从事薄膜技术研究与应用的科技工作者参会,同时,也欢迎有意推动我国薄膜技术发展的企业参加会议和提供支持!
【报告征集】
为进一步扩大会议影响,本次专题会议面向社会征集演讲报告,范围包括:
1、等离子体放电与诊断;
2、溅射靶材与工艺;
3、先进涂层与薄膜技术;
4、hipims电源与装备;
5、hipims涂层的应用与发展趋势等。
欢迎行业从业人员从技术应用层面出发积极参与交流,踊跃投稿。
截止时间:2023年9月30日(额满为止)
会议学术委员会:
主 席:
雷明凯 中国机械工程学会表面工程分会 主任委员
田修波 哈尔滨工业大学 教授
委 员:
段海涛 魏世丞 刘宣勇 刘 敏 乔培新 朱旻昊
李红轩 张 津 张 伟 朱嘉琦 汪爱英 杨冠军
姜肃猛 魏建军 李长久 王立平 范多旺 吴 勇
孙 超 王周成 陈庆川 夏 原 张俊彦 谭 俊
冯煜东 李刘合 刘 莹 任 妮 刘彭义 范 平
会议组织委员会:
主 席:
段金弟 中国机械工程学会表面工程分会 总干事
孙德恩 西南大学 教授
吴忠振 北京大学深圳研究生院 教授
委 员:
蔺 增 朱小鹏 唐振方 罗景庭 张广安 陈 辉
金 莹 雷占许 冷永祥 邓畅光 孙晓峰 谢玉江
王启民 李昱鹏 岩 雨 唐光泽 古 乐 王铁钢
李玉阁 曹辉亮 邓春明 陈 茜 贺定勇 柯培玲
许 一 杭瑞强 曾志翔 林修洲 金 杰 马 飞
亓建伟 苏峰华 马天宝 蒲吉斌 马国政 郑 军
张旭海 涂杰松 冯 凯 鞠鹏飞 钟 萍 占 稳
祁正兵 米新艳 杜 昊 吴爱民 张 侃 隋旭东
欧伊翔 张海宝 吴正涛
会议秘书:
张存修 蒋 超
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