2021年文化、设计与社会发展国际学术会议(CDSD 2021)

2021/12/17-2021/12/19

哈尔滨市


重要信息 

大会官网:www.iccdsd.com

大会时间:2021年1217-19

大会地点:中国-哈尔滨

报名/截稿:2021年12月13日

*早鸟价:1031日前投稿录用成功,缴费时找王老师可优惠200元

*已通过出版社审核,独立出版,高录用快见刊

团队投稿(3人以上):每篇优惠300

可加组委老师微信发简历竞选当主持人

接受/拒稿通知:投稿后1周内

收录检索:CPCI、CNKI


一、会议简介

2021年文化、设计与社会发展国际学术会议(CDSD 2021)将于2021年12月17日至19日在中国哈尔滨召开。会议旨在为从事“文化”、“设计”、“社会发展”等相关领域的专家、学者、工程技术人员、技术研发人员提供一个分享科研成果,拓宽研究思路、碰撞新思想、加强学术研究的国际平台,探讨本领域探讨本领域发展所面临的关键性挑战问题和研究方向,促进学术成果产业化合作的平台。大会诚邀国内外高校、科研机构专家、学者,企业界人士及其他相关人员参会交流。


二、主办单位:

 

AEIC学术交流中心是由多所国内外高校、科研院所和企业联合创建的一个优秀的国际学术会议品牌,简称AEIC。AEIC致力于科技信息的传播、学者科研交流、社会热点深剖、生活科普分享等与学术相关的交流活动,自2014年起、已成功举办500场国际学术会议,参与人数突破60000人次。会议主题涵括能源与环境、计算机科学、电子信息工程、水利土木工程、机械自动化、材料与制造技术、生物工程、地球科学、经管金融、人文社科等主流学科。AEIC以“忠于学术、服务学者”为理念,秉承“专业、专心、专注” 的学术服务精神,让学术交流更简单。

 

三、论文出版

1.CPCI会议

 

所有的投稿都必须经过2-3位组委会专家审稿,经过严格的审稿之后,会议所录用的论文将发表到Atlantis Press 出版社旗下proceeding系列《Advances in Social Science, Education and Humanities Research》(Online ISSN: 2352-5398)出版,见刊后将提交至CPCICNKI检索。

 

投稿须知:

◆会议论文模板下载→ 前往“资料下载”栏目下载

◆论文可接受是中、英文稿件,且论文应具有学术或实用价值,未在国内外学术期刊或会议发表过。发表论文的作者需提交全文进行同行评审,只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

◆作者可通过CrossCheck, Turnitin或其他查询系统自费查重,否则由文章重复率引起的被拒稿将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版,且公布在会议主页。

◆论文需按照会议官网的模版排版,不得少于4页。

◆已完成注册缴费的作者因个人主观原因撤稿,即日起将收取20%的手续费。

 

 

2.合作英文普刊(投稿时请备注【“W581”】将享有优先审稿及录用)

 

《Scientific and Social Research(SSR)》( ISSN:2661-4332)

《科学与社会研究》是一本开放获取、同行评审的国际期刊,其致力于出版科学、社会领域相关的原创性论文、社论、评论文章、意见性论文以及信件等文章。其致力于定量社会科学研究和方法的论文。该期刊的特色文章说明了使用定量方法对社会科学理论进行经验检验。该期刊着重于涉及跨学科学科领域的问题或方法的研究。特别关注仅由一门特定社会科学学科使用的方法,但这些方法可能会以测试社会科学理论的最终目标应用于更广泛的领域。

>>>普刊投稿链接<<<

联系人:王老师13502444340

 

四、征文主题

1).文化:

校园与企业文化建设

创意文化产业与建设

非物质文化遗产

中国传统文化与海外文化

社会主义核心价值观

文化自信与内涵

地域文化与文化差异

中外文学比较研究

成人教育与特殊教育

中外文化对比与跨文化交流

语言与国情学

小语种研究

教学中的应用

红色传承与文化遗产

语言哲学与国际级交流

2).设计:

设计作品鉴赏

系统设计与实现

建筑、结构设计

分析与优化设计

环境和公共艺术设计

设计方法和理论

服装与色彩设计

美术书法雕塑与摄影

艺术管理与教学设计

数字媒体设计;

科技设计与设计学

艺术设计概论

创意设计

◆交互设计

◆教学设计

 

3).社会发展:

国民经济与发展

科学发展

社会主义经济和社会发展

社会发展理论研究

以人为本

思想政治教育

构建和谐社会

中国特色社会主义

全面发展与对策研究

市场经济和生产总值

新时代理论与思想

社会变迁与生态文明

社会治理创新

社会工作基础 

其它与文化、设计和社会发展相关的主题

 

五、参会方式 (注:会议有主讲报告、口头报告及海报展示环节)
1、作者参会:一篇录用文章允许一名作者免费参会;

2、主讲嘉宾:申请主题演讲,由组委会审核;

3、口头演讲:申请口头报告,时间为15分钟;

4、海报展示:申请海报展示,A1尺寸,彩色打印;

5、听众参会:不投稿仅参会,也可申请演讲及展示。

6、报名参会:本会议由艾思科蓝支持在线报名


六、联系我们(大会秘书:王老师 Doris)

联系手机(微信同号):+86-13502444340
Doris Wang | 老师                           

咨询邮箱:contact@iccdsd.com

QQ咨询:2141235574